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紫外臭氧清洗机灯管


紫外臭氧清洗机灯管、紫外臭氧清洗灯、紫外光清洗灯管、紫外线清洗改质灯,UV光清洗灯,UV清洗灯长期供应用于处理ITO,FTO,光学玻璃,半导体,硅片,金属,陶瓷,聚合物等基片表面的有机物,可以提高基片表面附着力或者改善表面亲水性,在衬底涂层或者镀膜,基片键合等方面有广泛应用。

低压紫外汞灯能同时发射波长254nm和185nm的紫外光,这两种波长的光子能量可以直接打开和切断有机物分子中的共价键,使有机物分子活化,分解成离子、游离态原子、受激分子等。与此同时,185nm波长紫外光的光能量能将空气中的氧气(O2)分解成臭氧(O3);而254nm波长的紫外光的光能量能将O3分解成O2和活性氧(O),这个光敏氧化反应过程是连续进行的,在这两种短波紫外光的照射下,臭氧会不断的生成和分解,活性氧原子就会不断的生成,而且越来越多,由于活性氧原子(O)有强烈的氧化作用,与活化了的有机物(即碳氢化合物)分子发生氧化反应,生成挥发性气体(如CO2,CO,H2O,NO等)逸出物体表面,从而彻底清除了粘附在物体表面上的有机污染物。

应用领域


■在进行薄膜沉积之前先进行基片清洗。清除浮渣和稳定化处理光刻胶。超高真空度密封。


■清洗硅芯片,透镜,反光镜,太阳能面板,冷轧钢,惯性引导零件和 GaAs芯片


■清洁焊剂,混合电路以及平板LCD显示器


■蚀刻特氟隆,氟橡胶以及其它有机材料   


■增强GaAs 和Si氧化物钝化表面


■增强玻璃的除气作用


■基片蓝膜去除


■增强塑料表面的镀膜的粘附性


■基片终测后墨迹清楚


■去除光刻胶


■平板显示器/液晶显示器


■去除光刻机台上的光刻胶残留物


■在电路板封装和打片之前清洗)


■光纤


■增强表面亲水特性


■为生物科学应用做清洗和消毒


■光学透镜


■其它应用



 


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